海威"芯"品 | Hiwafer PPA15工艺正式发布

2019年3月28日，，，兴旅（HiWafer）成功完成首套0.15微米砷化镓（GaAs）工艺制程开发。。

工艺能力

Hiwafer PPA15工艺基于先进的高电子迁移率晶体管（pHEMT）器件结构，，，具有工作频率高
、
、输出功率密度大
、、噪声系数低等优点，，，，工艺性能达到业界先进水平。。。

Hiwafer PPA15工艺可支持的产品种类包括功率放大器
、
、、低噪声放大器、、混频器、、、开关等常用电路形式
，，工作频率高达50GHz，，可广泛应用于5G移动通讯、、卫星通讯
、
、、国防等诸多毫米波应用场景
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Hiwafer PPA15工艺采用目前业界最大的150mm砷化镓晶圆制造技术，
，可为国内外客户提供成熟、、、稳定
、、、高效、、、量产的产品研发及生产制造平台
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PDK

目前，，，，Hiwafer PPA15工艺已经通过客户多款电路试用验证，，，
，包括放大器、、、
、开关、、、、混频器等，，电路性能达到业界先进水平，，电路稳定可靠
、
、良品率高。
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Hiwafer PPA15工艺现可提供完整的工艺设计套件（PDK）供客户进行电路设计。
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。该PDK中集成了高精度的器件模型，，可精准预测电路性能结果，
，，，从而可以减少客户产品的研发迭代次数，，，缩短研制周期。。

Hiwafer PPA15工艺的成功发布，，，使得兴旅的砷化镓射频工艺种类更加丰富，，，从单一功能到多功能，
，，从低频到毫米波，，，可为客户提供更加丰富多样的技术服务。。